半導體新眼睛 衝製程良率

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,半導體大廠更朝10奈米、7奈米邁進,

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,半導體業者卻可能面臨「看不見」的難題。工研院與台積電合作開發的「新世代溶液中奈米微粒監控系統」,就是這雙新眼睛。在半導體濕式製程中,晶圓表面的清洗、蝕刻與研磨皆需仰賴特定化學溶液進行,而溶液中奈米粒子的尺寸與分布會影響晶圓電路圖案(pattern)的製程結果,因此必須持續監控溶液中粒子大小及數量,只要發現溶液粒子不符規格,就要馬上暫停及更換,以維持產品良率。工研院量測技術發展中心何信佳博士指出,傳統的雷射光學設備「看不到」化學溶液中40奈米以下的微粒,因此,半導體業者需擁有一雙能真正看得到更小微粒的「新眼睛」。台積電想利用量測氣體粒子的方法量測製程化學溶液,且必須能夠24小時連續在產線上進行監測。台積電先是向美國知名研發機構NIST求援,該機構專家轉而向台積電推薦曾在2010年前往NIST研究的何信佳。何信佳及團隊成員終將實驗室用的技術轉換為工廠用的設備。,

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